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Ao utilizar uma laje plasmonica refletiva, este artigo demonstra numérica e experimentalmente a litografia de imagem profunda subcomprimento de onda para caracteres nano com largura de linha de cerca de 50 nm e linhas densas com resolução de pitch de meio de 32 nm (cerca de 1/12 do comprimento de onda). Comparado com o experimento controle sem laje plasmonica refletiva, a resolução e a fidelidade dos padrões de resina impressos são notavelmente melhoradas, especialmente para recursos nano isolados. Simulações numéricas adicionais mostram que correções ópticas de proximidade de campo próximo ajudam a melhorar a fidelidade de imagem de padrões nano bidimensionais.
Wang et al. (Ter,) estudaram essa questão.