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Demonstramos um método simples de padronização totalmente óptico para o grafeno, baseado na oxidação induzida a laser de dois fótons. Ao ajustar a intensidade e a dose de irradiação, o nível de oxidação é controlado, a largura da banda é introduzida e as propriedades elétricas e ópticas são continuamente ajustadas. Padrões complexos são realizados para grafeno monolayer suspenso no ar e para grafeno em substratos. O conceito apresentado permite o desenvolvimento de dispositivos eletrônicos e optoeletrônicos totalmente em grafeno com um método totalmente óptico.
Aumanen et al. (Sex,) estudaram esta questão.
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