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A pesquisa em nanofabricação busca a miniaturização do tamanho das características padronizadas. No estado atual da arte, áreas em escala micrométrica podem ser padronizadas com características de até ~30 nm de pitch usando litografia por feixe de elétrons. Aqui, demonstramos uma técnica de nanofabricação que permite a padronização de estruturas periódicas com um pitch de até 16 nm. É baseada na usinagem por feixe de íons focados de membranas suspensas, com efeitos de proximidade mínimos típicos da litografia eletrônica padrão. As membranas são então transferidas e usadas como máscaras de gravação rígidas. Comparamos nossa técnica induzindo eletrostaticamente um potencial de super-rede no grafeno e observamos a modificação da estrutura de banda no transporte eletrônico. Nossa técnica abre caminho para a realização de super-redes de período muito curto em materiais 2D, mas com a capacidade de controlar simetrias de rede e força. Isso pode abrir o caminho para uma plataforma versátil de simulador quântico de estado sólido e para o estudo de fases eletrônicas correlacionadas.
Ruiz et al. (Mon,) estudaram esta questão.