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Resumo Neste estudo, apresentamos o efeito dos parâmetros de deposição do plasma nas propriedades elétricas e estruturais dos multilaminados de Ti/TiN. Os filmes foram formados por pulverização magnetrônica de r.f. (13,56 MHz) sob plasma reativo de nitrogênio e argônio a baixa pressão. O primeiro passo do nosso estudo foi a otimização das condições de deposição para obter filmes de boa qualidade. A pressão total foi ajustada entre 2 e 10 mTorr. O resultado principal é que a tensão de polarização própria desempenha um papel importante na evolução estrutural dos filmes de TiN, alterando a orientação preferencial do filme e sua dureza. A variação da resistividade em função da polarização do substrato também foi investigada. Os multilaminados depositados foram caracterizados por difração de raios X (XRD), espectroscopia de energia dispersiva (EDS) e análise de espalhamento Raman, além da técnica padrão de quatro pontas. Copyright © 2010 John Wiley & Sons, Ltd.
Saoula et al. (Ter,) estudaram esta questão.
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