Efeitos do campo elétrico durante a deposição em filmes de óxido de zinco dopado com índio depositados por spray

Resumo Filmes finos de óxido de zinco dopado com índio (IZO) foram depositados em um substrato de vidro utilizando a técnica de spray com uma tensão de corrente contínua (DC) aplicada ao bico para criar um campo elétrico durante a deposição. Foi constatado que a presença do campo elétrico tem um efeito forte na eficiência de dopagem, nas propriedades estruturais, elétricas e ópticas. A incorporação de índio no ZnO foi confirmada pela análise de espalhamento de Rutherford e análise de pico de difração de raios X. A micrografia de microscópio eletrônico de varredura mostrou que a morfologia da superfície mudou de uma estrutura semelhante a arroz para uma estrutura compacta semelhante a uma flor. A resistividade elétrica do filme de IZO preparado sob o campo elétrico foi de 2 × 10 −3 Ω cm, a transmissão na região visível foi superior a 80% e o fator de mérito (Φ TC ) foi de 3,39 × 10 −3 Ω −1 . Os filmes depositados sob o campo elétrico mostraram um estreitamento da banda proibida, que é explicado utilizando os efeitos de muitos corpos na teoria da perturbação. O filme de IZO depositado por spray sob o campo elétrico mostrou ser útil para a fabricação de vidro superior autolimpante em módulo de células solares. Copyright © 2015 John Wiley & Sons, Ltd.