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Os danos ao DNA causados por elétrons de baixa energia (LEE) foram examinados usando um sistema inovador em que filmes sólidos finos de tetrameros de oligonucleotídeos (CGTA e GCAT) foram irradiados com elétrons monoenergéticos (10 eV) sob ultra-alto vácuo. Os produtos da irradiação foram examinados por HPLC. Essas análises permitiram a quantificação de 16 fragmentos de nucleobases, nucleosídeos e nucleotídeos não modificados de cada tetramero resultantes da ruptura de ligações fosfodiéster e N-glicosídicas. A distribuição dos produtos não modificados sugere um mecanismo de dano envolvendo a ligação inicial do elétron às porções de nucleobase, seguida pela transferência de elétron para a espinha dorsal de açúcar-fosfato e subsequente dissociação da ligação fosfodiéster. Além disso, praticamente todos os fragmentos não modificados continham um grupo fosfato terminal no local da quebra. Esses resultados demonstram que a ligação fosfodiéster se quebra por um caminho distinto em que a carga negativa se localiza na ligação fosfodiéster, resultando em fragmentos não modificados com um grupo fosfato intacto. Por outro lado, o radical deve se localizar na porção de açúcar para dar modificações ainda não identificadas. Em resumo, a reação de LEE com tetrameros simples envolveu ligação dissociativa de elétrons que levou à quebra da ligação fosfodiéster e à formação de fragmentos não modificados.
Zheng et al. (Ter,) estudaram essa questão.
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