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Resonâncias ópticas localizadas em nanostruturas metálicas têm sido cada vez mais usadas na impressão colorida, demonstrando resolução sem precedentes, mas limitadas em gama de cores. Aqui, introduzimos um novo design de nanostruturas, que amplia a gama enquanto retém a resolução de impressão. Em vez de metais, nanostruturas de silício que exibem resonâncias dipolares magnéticas e elétricas localizadas foram fabricadas em um substrato de silício revestido com uma camada de correspondência de índice de Si3N4. A correspondência de índice permite a supressão dos efeitos do substrato, permitindo assim que as condições de Kerker sejam atendidas, ou seja, transições acentuadas nos espectros de refletância levando a cores saturadas. Este design de nanostruturas atinge uma gama de cores superior ao sRGB e é compatível com processos CMOS. O design apresentado pode permitir displays coloridos de alta resolução compactos e filtros, e o uso de um revestimento antirreflexo de Si3N4 pode ser facilmente estendido para designs com nanostruturas fabricadas usando outros materiais de alto índice.
Dong et al. (Qua,) estudaram essa questão.
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