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O futuro da nanociência e nanotecnologia depende criticamente de técnicas para micro- e nanofabricação. Um conjunto emergente de métodos, conhecido coletivamente como litografia suave, utiliza carimbos de elastômero, moldes e fotomáscaras conformáveis para a formação de estruturas bidimensionais e tridimensionais com tamanhos de recurso mínimos profundamente no regime nanométrico. As poderosas capacidades de formação de padrões dessas técnicas, junto com sua simplicidade experimental, tornam-nas úteis para uma ampla gama de aplicações. Este artigo revisa os avanços recentes no campo da litografia suave, com foco nas tendências de pesquisa e passos rumo à comercialização.
Rogers et al. (Sat,) estudaram esta questão.
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