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Scatterometrie wird aufgrund ihrer hohen Prozesskompatibilität praktisch zur Mikrostrukturanalyse von ultragroßen Integrationen eingesetzt. Andererseits war ihre Anwendung auf periodische Strukturen beschränkt. Durch Anwendung dieser Methode auf isolierte Systeme und unter Verwendung harter Röntgenstrahlung könnte eine Auflösung von weit unter 10 nm, der Grenze herkömmlicher optischer Messungen, möglich sein. Wir demonstrieren die Machbarkeit dieser Messung durch rigorose Berechnungen. Zu diesem Zweck maßen wir die Intensität der spekularen Reflexion und das Rauschen an der Strahlungsquelle harter Röntgenstrahlung. Das virtuelle Ziel ist ein 15 nm breites Gitter. Das Signal-Rausch-Verhältnis ist für ein Gitter mit einer Periode von 25 nm ausreichend niedrig, aber für ein isoliertes Gitter zehnmal höher.
Hoshino et al. (Mon,) untersuchten diese Fragestellung.
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