Die Optimierung des photoemissionsbasierten Blade-Typs XBPM wurde hauptsächlich durchgeführt, um die Auflösung zu erhöhen, indem der Auslesestromsignal erhöht und die Geometrie der Blades optimiert wird. Dies erfordert eine Anpassung des XBPM für einen bestimmten Undulator, wodurch fast jeder XBPM am Synchrotronstrahlungseinrichtung einzigartig ist. In vielen Fällen ist der Kalibrierungskoeffizient gaperabhängig. Um diese Nachteile zu überwinden, wird eine alternative Optimierungsstrategie in Betracht gezogen, die helfen wird, die Gap-Abhängigkeit zu minimieren und ein einheitliches XBPM-Design für alle XBPMs an der Synchrotronstrahlungseinrichtung (SR) bereitzustellen.
P. Ilinski (Tue,) hat diese Frage untersucht.
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