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auf strukturiertem Graphen, um eine Bedingung für die Minimierung des epitaxialen lateralen Überwachsens zu schaffen. Durch die Beobachtung ganzer nanoskaliger Kerne, die auf pinhole-freiem Graphen gewachsen sind und die mit hochauflösender Transmissionselektronenmikroskopie bestätigt wurden, bestätigen wir visuell, dass die Fern-Epitaxie auf atomarer Ebene wirksam ist. Makroskopisch zeigen wir auch Variationen in der Dichte von GaN-Mikrokristall-Arrays, die von der Ionizität der Substrate und der Anzahl der Graphenschichten abhängen.
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Celesta S. Chang
Seoul National University
Ki Seok Kim
Korea Advanced Institute of Science and Technology
Bo‐In Park
Jeonbuk National University
Science Advances
Massachusetts Institute of Technology
Cornell University
Seoul National University
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Chang et al. (Fri,) haben diese Frage untersucht.
synapsesocial.com/papers/69ff4ba36018b8d0892d7519 — DOI: https://doi.org/10.1126/sciadv.adj5379
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