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Der aktuelle Stand der hochauflösenden Displacementsmessenden Interferometrie wird überprüft. Faktoren, die die Genauigkeit, Linearität und Wiederholbarkeit von Messungen im Nanometerbereich bestimmen, werden hervorgehoben. Viele Aspekte der Interferometrie werden diskutiert, einschließlich allgemeiner Metrologie und Ausrichtungsfehler sowie Fehler bei der Weglänge. Optische Mischungen und die nichtlineare Beziehung zwischen Phase und Verschiebung werden in Betracht gezogen, ebenso wie der Einfluss von Beugung auf die Genauigkeit. Umweltstabilität ist ein wesentlicher Faktor für die Wiederholbarkeit und Genauigkeit der Messung. Es ist schwierig, eine Messgenauigkeit von 10-7 zu erreichen, wenn man in der Luft arbeitet. Verschiedene Ansätze zur Verbesserung dieser Situation werden beschrieben, einschließlich der Mehrwellenlängeninterferometrie. Neueste Messungen der kurz- und langfristigen Frequenzstabilität von Lasern werden zusammengefasst. Optisches Feedback ist eine subtile, aber wichtige Quelle der Frequenzdestabilisierung, und Methoden zur Erkennung und Isolierung werden behandelt. Die Kalibrierung der Phasenmess-Elektronik, die für die Subfringe-Interpolation verwendet wird, ist enthalten. Fortschritte bei der 'in situ'-Identifizierung von Fehlerquellen und Methoden zur Validierung der Genauigkeit werden hervorgehoben.
Norman Bobroff (Mi,) hat diese Frage untersucht.