Mechanismen der Ordnung in gestreiften Mustern

Wir haben die Ordnungsdynamik der gestreiften Muster einer einzelnen Schicht zylindrischer Blockcopolymer-Mikrodomänen in einem dünnen Film untersucht. Durch die Verfolgung von Disklinationen während des Anlaufens mit zeitlich aufgelöster Atomkraftmikroskopie beobachten wir einen dominanten Mechanismus der Disklinationenanihilation, der drei oder vier Disklinationen (Quadrupole) betrifft. Paarweise Disklinationenanihilationsevents werden aufgrund der topologischen Einschränkungen in diesem System unterdrückt. Die hier beobachteten kinetischen Skalierungsgesetze mit Exponenten stehen im Einklang mit topologisch erlaubten Annihilationsevents, die mehrere Disklinationen betreffen. Die Ergebnisse geben Einblick in die zweidimensionale Musterbildung und könnten zu einer erfolgreichen Anwendung der Blockcopolymer-Lithographie führen.