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Kohlenstoffnanoröhren (CNTs) haben aufgrund ihrer einzigartigen elektronischen und außergewöhnlichen mechanischen Eigenschaften viel Aufmerksamkeit für eine Vielzahl von Anwendungen erhalten. Kürzlich hat sich die plasmaunterstützte chemische Dampfablagerung (PECVD) als wichtige Wachstumstechnik etabliert, um vertikal ausgerichtete Nanoröhren zu produzieren. Dieses Papier überprüft verschiedene Plasmaquellen, die derzeit im CNT-Wachstum verwendet werden, sowie die Katalysatorvorbereitung und Wachstumsergebnisse. Da sich die Technologie in einem frühen Stadium befindet, gibt es ein allgemeines mangelndes Verständnis der Wachstumsmechanismen, der Rolle des Plasmas selbst und der Identität der entscheidenden Spezies, die für das Wachstum verantwortlich sind. Diese Übersicht richtet sich an die Forschungsgemeinschaft für Niedertemperaturplasma, die solche Probleme erfolgreich durch Plasma- und Oberflächendiagnostik sowie Modellierung in der Halbleiterverarbeitung und dem Wachstum von Diamant-Dünnschichten angegangen ist.
Meyyappan et al. (Wed,) haben diese Frage untersucht.
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