Breitband-Antireflexgitter, die auf Siliziumsubstraten hergestellt wurden

Wir haben eine zweidimensionale subwellenlängengegliederte (SWS) Oberfläche auf einem kristallinen Siliziumsubstrat hergestellt. Die SWS-Oberfläche wurde durch Elektronenstrahllithografie strukturiert und mit einem SF(6) Schnelligkeitsatomstrahl geätzt. Das SWS-Gitter hatte ein konisches Profil, die Periode betrug 150 nm, und die Rille war ungefähr 350 nm tief. Die Reflexion wurde bei Wellenlängen von 200 bis 2500 nm untersucht. Bei 400 nm nahm die Reflexion auf 0,5% von 54,7% des Siliziumsubstrats ab. Wir verwendeten auch HeNe-Laserlicht, um die Reflexion in Abhängigkeit vom Einfallswinkel zu untersuchen.