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La oxidación de la superficie del aluminio sigue siendo poco comprendida a pesar de su papel vital como aislante en la electrónica, en baterías de aluminio-aire y en la protección del metal contra la corrosión. Aquí usamos imágenes de resolución atómica en un microscopio electrónico de transmisión ambiental (TEM) para investigar el mecanismo de formación del óxido de aluminio. Aprovechando el esparcimiento de haz de electrones, preparamos una superficie metálica prístina y libre de óxido en el TEM. Esto nos permite estudiar, en función de la orientación cristalográfica y la presión del gas oxígeno, el régimen completo de crecimiento del óxido desde la primera nucleación de óxido hasta una película superficial completa saturada de unos pocos nanómetros de grosor.
Nguyen et al. (Wed,) estudiaron esta cuestión.
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