Una forma imprimible de silicio para transistores de película delgada de alto rendimiento en sustratos plásticos

Objetos de micro y nanoscale autoportantes de silicio de un solo cristal pueden ser fabricados a partir de obleas de silicio sobre aislante mediante el patrón litográfico de resist, grabado del silicio superior expuesto y eliminando el SiO2 subyacente para despegar el silicio restante. Una gran colección de dichos objetos constituye un tipo de material que puede ser depositado y patternizado, mediante impresión por transferencia en seco o fundido en solución, sobre sustratos plásticos para producir transistores de película delgada mecánicamente flexibles que tienen excelentes propiedades eléctricas. Las movilidades efectivas de los dispositivos construidos con este material, que nos referimos como silicio microestructurado (μs-Si), se demuestran ser tan altas como 180cm2∕Vs en sustratos plásticos. Esta forma de microtecnología