Formation de nanoshells creux de résorcinol-formaldéhyde par un processus de dissolution-renaissance

Nous rapportons ici que la dissolution et la renaissance de particules colloïdales de résorcinol formaldéhyde (RF) peuvent se produire spontanément lorsqu'elles sont soumises à un gravure dans des solvants tels que l'éthanol et le tétrahydrofurane, entraînant la formation de nanostructures creuses avec une épaisseur de coque contrôlable. Le processus de creusement des particules RF est attribué à leur inhomogénéité structurelle, qui résulte du dépôt successif d'oligomères de différentes longueurs de chaîne lors de leur croissance initiale. Comme la couche proche de la surface des colloïdes RF consiste principalement en oligomères à longues chaînes tandis que la partie intérieure est composée d'oligomères à courtes chaînes, la gravure sélective élimine ces derniers et produit les structures creuses. En révélant les effets importants du degré de condensation du RF, du temps et de la température de gravure, ainsi que de la composition des solvants, nous démontrons que la morphologie et la structure des nanostructures RF résultantes peuvent être contrôlées de manière pratique et précise. Cette étude améliore non seulement notre compréhension de l'hétérogénéité structurelle des particules polymères colloïdales, mais fournit également une approche pratique et universelle auto-structurée pour la synthèse de nanostructures creuses.