Préparation de films minces amorphes de CNx par dépôt laser pulsé utilisant une source de faisceau radical à radiofréquence

Des films minces amorphes de CNx ont été déposés par dépôt laser pulsé (PLD) combiné avec une source de faisceau radical à radiofréquence à azote qui fournit des espèces azotées actives à la surface du film en croissance. Les espèces azotées actives dominantes sont des molécules d'azote N2 excitées et des atomes d'azote. Les films déposés ont été caractérisés par microscope à balayage électronique, spectroscopie de photoélectrons X (XPS), diffusion Raman et spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier (FTIR). La teneur en azote des films déposés a augmenté avec l'augmentation de la puissance d'entrée rf et de la pression de N2 dans la chambre PLD. Le rapport N/C de 0,23 a été obtenu à 400 W de puissance d'entrée rf et 1,3 Pa. Les spectres XPS N 1s montrent l'existence de liaisons N–sp2C et N–sp3C dans les films déposés. La fraction de N–sp3C a augmenté avec l'augmentation de la pression de N2 dans la chambre PLD lors de l'opération de la source de faisceau radical. Les spectres FTIR et Raman des films déposés indiquaient que les liaisons N≡C dans les films étaient rares par rapport aux autres liaisons de carbone et d'azote.