Desarrollo de un Fotoresistente Negativo Desarrollable en Agua para Fotolitografía i-Line Utilizando Derivados de Celulosa con Capa Base

Se sintetizó un fotoresistente desarrollable en agua introduciendo grupos metacrilato en celulosa hidroxipropílica (HPC), un derivado de celulosa, a través de la sustitución de grupos hidroxilo. El material permitió el micropatronado mediante exposición a luz ultravioleta (UV) a una longitud de onda de 365 nm con una dosis de exposición de 450 mJ/cm². Se formaron micropatronos de líneas y puntos en sustratos de polipropileno aplicando una capa base, alcanzando resoluciones de 4.5 µm y 5.0 µm, respectivamente. El fotoresistente demostró una resistencia al grabado superior bajo plasma de CF4 en comparación con otro fotoresistente solubles en agua. A diferencia de los fotoresistentes convencionales que requieren solventes orgánicos peligrosos, este fotoresistente desarrollable en agua ofrece una alternativa ecológica, reduciendo riesgos para la salud y el impacto ambiental en la industria electrónica.