Статья посвящена разработке специалистами АО “НИИЭФА” сверхпроводниковых магнитов, применяемых в системах инжекции (источники ионов) различного типа. Представлены два сверхпроводниковых магнита различной конфигурации, применяемых в сильноточном инжекторе многозарядных ионов на базе сверхпроводникового источника ионов с электронно-циклотронным резонансом с индукцией магнитного поля на оси со стороны инжекции 4 Тл, со стороны экстракции пучка ионов 2—2.5 Тл, а также в электронно-лучевом источнике многозарядных ионов системы внешней инжекции циклотронного комплекса с индукцией магнитного поля 5 Тл. Приведены обоснование выбора основных параметров магнитной системы и ее защиты, а также электромагнитный, тепловой и механический анализ выбранной конфигурации магнитной системы.
E.R. Zapretilina (2025) studied this question.