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Los arreglos de nanohilos de silicio alineados verticalmente (VA‐SiNW) están surgiendo como una poderosa nueva herramienta para la entrega de genes mediante la transfección mecánica. Para utilizar esta herramienta de manera eficiente, es necesario eliminar las incertidumbres en torno a los parámetros de diseño requeridos. Aquí, se utiliza una combinación de litografía de nanospheres y grabado químico húmedo asistido por metal en plantilla para fabricar arreglos de VA‐SiNW con una variedad de diámetros, alturas y densidades. Esta estrategia de fabricación permite identificar parámetros críticos de la topografía de la superficie y, en consecuencia, el diseño de arreglos de SiNW que entregan plásmido con alta eficiencia de transfección en una amplia gama de células humanas, manteniendo al mismo tiempo una alta viabilidad celular. Estos resultados iluminan las interacciones entre células y materiales que median la transfección de VA‐SiNW y tienen el potencial de transformar la terapia genética y respaldar futuras modalidades de tratamiento.
Elnathan et al. (Tue,) estudiaron esta pregunta.
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