スピン光学メタマテリアルによるスピン制御フォトニクス

スピン光学は光を制御する手段を提供し、フォトンのヘリシティ（スピン角運動量）の縮退がメタサーフェスへの幾何学的勾配によって取り除かれます。スピン光学とメタマテリアルの結合は、偏光ヘリシティ依存的な方法で構造化された物質の分散工学を提供します。私たちは、空間反転対称性が破れた場所でメタマテリアルの偏光制御された光学モードが生じることを示します。自然放出のスピン分裂分散は光のスピン-軌道相互作用に由来し、スピン光学メタマテリアルにおける対称性制限に基づいた選択ルールを生成します。反転非対称メタサーフェスは異方性光学アンテナパターンを用いて得られます。このタイプのメタマテリアルは、メタサーフェスの対称性特性のデザインに基づくスピン制御ナノフォトニクスアプリケーションへのルートを提供します。