January 25, 2016Open Access
A temperatura de ventilação determina a química da superfície de filmes de TiN depositados por sputtering com magnetron
Key Points
Key points are not available for this paper at this time.
Abstract
As propriedades superficiais de filmes finos de nitreto de metal de transição cerâmico refratário, crescidos por sputtering com magnetron, são essenciais para a resistência à oxidação necessária em todas as aplicações modernas. Aqui, fatores tipicamente negligenciados, incluindo exposição a gases residuais do processo após o crescimento e a temperatura de ventilação Tv, que afetam a química da superfície, são abordados. Demonstra-se para o sistema de materiais modelo de TiN que Tv tem um efeito substancial sobre a composição e a evolução da espessura da camada de superfície reagida e, portanto, deve ser relatado. Os fenômenos também mostram impacto na caracterização superficial confiável por espectroscopia de fotoelétrons de raios X.