二维层状材料的光学和电子学特性

现代半导体器件彻底革新了电子、照明、太阳能和通信等广泛领域的技术 1。半导体工业利用 Si 制造电子电路，并将 GaAs、、以及其他 III–V 材料用于光电子器件 2，其衬底由在温度下制造的晶圆组成。可以在衬底上精确控制薄膜以实现附加功能，例如通过化学气相沉积 (CVD) 或分子束外延 3。