The Glass Transition Phases in the Formation of PtSi

The crystalline to amorphous transformation occurs at the Pt–Si interface in the formation of PtSi. The structure of the glassy phase depends on temperature. At higher temperatures, the glassy phase contains small randomly oriented Pt crystals. The lower temperature glass has as continuous amorphous structure. When Pt diffuses into Si, the crystalline-amorphous transformation occurs when the clastic energy of the crystalline solid is increased and the energy barrier for the reaction is lowered by the weakening of covalent bonds. PtSi nucleates within the glass at one interface. At 725 °C, the structure of the amorphous phase and the orientation of Pt and PtSi do not depend on the Si surface orientation. Bei der Bildung von PtSi tritt ein Übergang kristallin-amorph an der Pt–Si-Grenzfläche auf. Die Struktur der glasartigen Phase hängt von der Temperatur ab. Bei höheren Temperaturen enthält die glasartige Phase kleine statistisch orientierte Pt-Kristalle. Das Niedertemperaturglas besitzt enie kontinuierliche amorphe Struktur. Wenn Pt in Si eindiffundiert, tritt der Übergang kristallin-amorph auf, wenn die elastische Energie des kristallinen Festkörpers anwächst und die Energiebarriere für die Reaktion durch die Absch wächung der kovalenten Bindungen erniedrigt wird. Im Glas tritt an einer Grenzfläche PtSi-Keimbildung auf. Bei 725 °C hängen die Struktur der amorphen Phase und die Orientierung von Pt und PtSi nicht von der Si-Oberflächenoricnticrung ab.