Propriedades estruturais e curvatura da banda de ZnO1−xSx filmes finos depositados por sputtering reativo

Uma série de filmes de ZnO1−xSx com 0⩽x⩽1.0 foi depositada por sputtering reativo de radiofrequência em diferentes substratos. A caracterização estrutural por medidas de difração de raios X revelou que os filmes têm simetria wurtzita e investigações correlacionadas da composição da camada por espectroscopia de fotoelétrons mostraram que a constante da rede varia linearmente com x. A dependência da composição da energia da banda proibida no sistema ternário foi determinada por transmissão óptica e o parâmetro de curvatura óptica foi encontrado em cerca de 3eV.