新しいレーザーシステムとレーザー照射法は、レーザー間質熱療法中の炭化リスクを低下させた：MR温度測定による評価

背景と目的：著者らは、脳内腫瘍に対するレーザー間質熱療法（LITT）を確立するために、磁気共鳴（MR）温度マッピングを用いて間質レーザー照射によって生成される局所温度を調整する方法を調査した。研究デザイン/材料と方法：LITT用にダイオードレーザーシステムと6種類の光ファイバーシステムを開発した。各レーザー-ファイバーシステムによって生成された温度プロファイルの特性をMR温度測定（水プロトン化学技術）で調査し、2つのレーザー照射方法（連続と間欠）によって誘導される温度プロファイルの違いを観察した。結果：拡散投影ファイバーシステムを除くすべてのファイバーシステムは、球状の温度プロファイルを生成した。高出力レーザー照射時には、裸端ファイバー先端周辺で時々炭化が発生した。拡散投影ファイバーシステムは、円筒状の温度分布を生み出し、温度プロファイルは裸端ファイバーよりも温度の上昇がより緩やかであった。拡散投影ファイバーシステムの先端では炭化は発生しなかった。また、間欠照射法の使用も温度を徐々に上昇させた。ファイバーシステムの改良と間欠照射により、レーザービームの強度と炭化のリスクが低下した。結論：強度の低いレーザービームを間欠的に伝送する拡散投影ファイバーシステムの使用は、MR温度測定を使用したLITT中の温度を調整する効果的な手段である。