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La lithographie de nanosphères offre une approche rapide et peu coûteuse pour le motif de grandes structures nanométriques périodiques bidimensionnelles. Cependant, une compréhension complète du processus d'auto-assemblage des nanosphères est nécessaire pour permettre le développement et l'extension de cette technologie. L'auto-assemblage des nanosphères en réseaux périodiques bidimensionnels a précédemment été attribué uniquement à la force de Marangoni ; cependant, nous démontrons que le potentiel ζ de la solution de nanosphères est d'une importance cruciale pour que l'auto-assemblage soit réussi. Nous discutons et démontrons comment cette insight peut être utilisée pour augmenter considérablement les zones de réseaux périodiques 2D auto-assemblés tout en réduisant le temps et le coût de motif. Comme application représentative, nous fabriquons des nanostructures antireflet sur un substrat en polymère flexible transparent adapté à une utilisation en tant que film antireflet à grande surface (270 cm2), large bande et omnidirectionnel.
Cossio et al. (Jeu,) ont étudié cette question.
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