SILAR-Abscheidung von metalloxidnanostrukturierten Filmen

Zusammenfassung Methoden zur Herstellung von Dünnschichten mit gut kontrollierter Struktur und Eigenschaften sind von großer Bedeutung für die Entwicklung funktioneller Geräte für eine Vielzahl von Anwendungen. SILAR, das Akronym für Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction, ist eine Weiterentwicklung und Kombination zweier anderer Abscheidemethoden, der Atomic Layer Deposition und der Chemical Bath Deposition. Aufgrund der relativen Einfachheit und der niedrigen Kosten hat diese Methode zunehmend Interesse in der wissenschaftlichen Gemeinschaft geweckt. Es gibt jedoch mehrere Aspekte, die mit dem Einfluss der vielen beteiligten Parameter verbunden sind und die einer weiteren Vertiefung bedürfen. In diesem Übersichtsartikel werden die Grundlagen der Methode, ihre Anwendung zur Herstellung von Dünnschichten, die Bedeutung experimenteller Parameter und einige aktuelle Fortschritte in der Anwendung von Oxidfilmen überprüft. Zuerst werden die grundlegenden theoretischen Grundlagen und experimentellen Konzepte von SILAR diskutiert. Anschließend wird die Herstellung von Chalcogeniden und Metalloxiden überprüft, wobei ein besonderer Schwerpunkt auf Metalloxiden liegt, um allgemeine Informationen über den Einfluss experimenteller Parameter auf strukturelle, morphologische und funktionelle Eigenschaften zu extrahieren. Schließlich werden aktuelle Fortschritte in der Anwendung von durch SILAR hergestellten Oxidfilmen beschrieben, mit Fokus auf Superkondensatoren, transparente Elektroden, Solarzellen und fotoelektrochemische Geräte.