Amplificação química no design de materiais de resistores de desenvolvimento seco

Resumo Um novo sistema de resina é descrito, que passa por formação espontânea de imagem em relevo. A resina é formulada com poli(fitaldeído) com extremidades capadas, PPA, e um fotoiniciador catiônico, como um diariodiodônio ou haleto metálico triarylsulfonium. A extrema sensibilidade da resina é resultado do design para amplificação química. A amplificação desejada resulta do fato de que a fotólise do sensibilizador gera ácidos que catalisam a clivagem da cadeia principal do polialdeído. O polímero não capado é termodinamicamente instável em relação à reversão ao monômero à temperatura ambiente, portanto, uma única clivagem catalisada por ácido resulta em completa despolimerização para o monômero volátil. Um único evento radioquímico é assim amplificado no sentido de que produz um enorme número de transformações químicas subsequentes. Os filmes de resina PPA/sal de onium são tão sensíveis que a exposição a doses baixas de radiação de e‐beam, raios X ou radiação ultravioleta resulta em auto-desenvolvimento completo sem processamento pós-exposição de qualquer tipo. A área exposta simplesmente se vaporiza.