光发射光谱法在电子回旋共振离子源中的应用

摘要 电子回旋共振离子源（ECRIS）广泛用于产生高强度的高度带电离子束，应用于研究、医疗和工业。ECRIS的性能，尤其是电荷状态分布和束流强度，显著依赖于电子能量分布函数，该函数范围从几电子伏特到数百千电子伏特。进一步提升ECRIS性能需要对等离子体加热机制和离子生成有更深入的理解，并借助适当的等离子体诊断手段。光发射光谱法（OES）在ECRIS中的应用最为显著：它是一种非侵入式诊断技术，能够在高电压条件下操作，并且占用空间小。OES已经在质子源中进行了等离子体诊断的测试。本研究呈现了为适用于医疗的哈德罗治疗先进离子源（AISHa）的等离子体诊断而开发的实验装置，以及将可见光和近红外域中的等离子体发射线与一些感兴趣离子的等离子体参数相关联所采用的策略。初步结果和前景也将进行讨论。