使用多层反射光学对强100 keV X射线进行亚微米聚焦

构建了一种高通量亚微米聚焦系统，使用Kirkpatrick–Baez几何的多层聚焦镜针对100 keV X射线。聚焦镜系统具有5%的宽带和74%的高峰反射率。在SPring-8的无振荡器光束线BL05XU对其性能进行了评估，该光束线产生了一个带宽为1%的强100 keV X射线束。当光源在垂直和水平方向上直接聚焦时，光束尺寸被测量为0.32 µm (V) × 5.3 µm (H)，通量为1 × 10^12 photons s^{-1}。然而，当使用有限的水平狭缝形成次级源时，聚焦光束尺寸减少到0.25 µm (V) × 0.26 µm (H)，通量为6 × 10^{10} photons s^{-1}。用钽制成的西门子星图的200 nm线和空间图案通过聚焦光束的吸收对比度得到了清晰的分辨。这种100 keV聚焦系统适用于各种具有亚微米分辨率的无损分析领域。