GdTbDyHoEr薄膜的结构和磁性特征

通过溅射沉积获得GdTbDyHoEr高熵合金的薄膜。对不同厚度（50到1000纳米）的样品进行了结构特征、磁性和磁制冷特性的分析。薄膜结构被描述为六角晶格，特征是高度的纹理化。利用麦克斯韦关系从磁等温测量的数据中确定了磁熵变化ΔSM。研究发现，所研究的薄膜中的磁制冷效应在较宽的温度范围内观察到，在150 K的温度下，磁场变化幅度为2 T时，ΔSM的最大值约为1.4 J/kg K。