在氩气等离子体低能轰击过程中，Al–4%Cu/Si表面a-Si薄膜在可见光范围内的反射变化

在这项工作中，研究了一种基于法布里-佩罗共振的两层薄膜结构作为选择性吸收体，覆盖可见波长范围。通过磁控溅射在单晶硅晶片上沉积了20 nm厚的非晶硅层和200 nm厚的掺铜铝（4%）层。使用激光干涉仪控制的感应耦合等离子体精密氩离子溅射获得了硅厚度在20到11.6 nm间以2.8 nm递增的实验样品。随着a-Si厚度的降低，实验观察到共振吸收峰从590 nm移动到440 nm，导致表面颜色发生明显变化。实验和计算的反射光谱吻合良好。在550-650 nm的波长范围内几乎完全吸收，导致表面颜色明亮。