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预测硅(Si)晶体管在5纳米(nm)以下的门长会因严重的短通道效应而失效。作为Si的替代品,某些层状半导体因其原子级均匀的厚度(可低至单层)、较低的介电常数、较大的带隙和较重的载流子有效质量而受到关注。在此,我们展示了使用单壁碳纳米管作为门电极的物理门长为1纳米的二硫化钼(MoS2)晶体管。这些超短设备具有优异的开关特性,近似理想的亚阈值摆幅约为每十倍65毫伏,开/关电流比约为106。模拟显示,在关态下有效通道长度约为3.9纳米,在开态下约为1纳米。
Desai等(Thu,)研究了这个问题。
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