尽管在六方氮化硼(hBN)中表现出单光子发射的点缺陷引起了相当大的兴趣,但对hBN中缺陷物理和化学的更广泛理解仍然有限,可能会妨碍进一步的发展。氧是hBN中最常见的杂质之一,许多研究报告称在氧掺杂后发光(PL)带明显集中在3.5 eV附近,但其微观起源依然未解决。在这里,我们证明这种发射源自中性氧取代氮(ON)捕获空穴,它在光激发下作为复合中心。转变机制并不简单,不仅涉及电荷状态的变化,还涉及显著的结构重构:当带正电的缺陷采用高对称的面内几何形状时,中性状态在低对称的构型中稳定下来,该构型以氧原子的面外位移及其相邻的硼原子为特征。与空穴捕获伴随的强晶格松弛使发射能量远低于5.09 eV的零声子线能量。计算得到的发光谱形成一个宽发射带,峰值为3.66 eV,全宽半最大(FWHM)为0.69 eV,与实验观察到的氧掺杂hBN中的峰位置和线形非常吻合.
M. Maciaszek (周二) 研究了这个问题.
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