制造具有可调尺寸的大面积周期性硅纳米柱阵列，分辨率低于10纳米

在这里，我们提出了一种制造过程，可以生产大面积、可调尺寸的周期性硅纳米柱阵列，使用通过纳米球光刻法创建的金属模板。硅纳米柱的尺寸可以通过氧化和刻蚀过程进行系统控制。通过这种方法制造的纳米柱最小尺寸约为9纳米，纳米柱覆盖的面积超过1平方厘米。使用这种方法和纳米压印光刻，可以图案化粒子密度高达1 × 10^9粒子/平方厘米的低于10纳米的金属纳米颗粒。