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为14种金刚石和闪锌矿结构的半导体(AlSb、CdTe、GaAs、GaP、GaSb、Ge、InAs、InP、InSb、Si、Sn、ZnS、ZnSe和ZnTe)确定了伪势形因子和能带结构。使用了晶体中能级分裂的实验值。这些形因子似乎准确到0.01 Ry,并生成与实验一致的能带,带隙附近相差0.01 Ry,在1 Ry范围内相差0.04 Ry。对于某些材料来说,这是首次计算的能带结构。
Cohen等人(1966)研究了这个问题。