利用原子力显微镜直接观察辐射DNA中的损伤聚集

电离辐射产生的聚集DNA损伤在10-20 bp范围内包含两个或更多的病变。人们认为，聚集损伤的复杂性（即每个损伤位点的病变数量）与电离辐射的生物严重性有关。然而，目前实验仅证明了包含两个相邻病变的简单聚集损伤。在这里，我们开发了一种新方法来分析聚集DNA损伤的复杂性。质粒DNA分别用稠密和稀疏电离的Fe离子束和X射线辐射。然后，用生物素/链霉亲和素标记生成的DNA损伤，并利用原子力显微镜观察。Fe离子束产生了包含2-4个病变的复杂聚集损伤。此外，它们在单个质粒分子中生成了两个或三个聚集损伤位点，这些位点是由单条Fe离子束轨迹的碰撞造成的。相反，X射线产生了相对简单的聚集损伤。本研究结果提供了复杂聚集损伤的首次实验证据。