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摘要 在本系列之前的论文中,我们提出了一种新的函数以适应大半径的晕密度轮廓。这个截断的Einasto轮廓将内部的轨道物质建模为 ₎ₑ₁ -2/ \ (r / r ₒ) ^ - 1/ \ (r / r ₓ) ^,而外部的下落项则建模为幂律过密度。在本文中,我们分析了尺度半径 r ₒ、截断半径 r ₓ、陡峭度、截断锐度、下落归一化 ₁ 和下落斜率 s 的结果参数空间。我们展示了这些参数在平均轮廓中是非简并的,并且对总轮廓的拟合通常能够恢复轨道和下落项的基本属性。我们研究了轮廓参数与晕属性之间的联系,如质量(或峰值高度)和增积率。我们发现,通常引用的峰值高度依赖性是将Einasto轮廓拟合到实际的截断轮廓的伪影。在我们的拟合中,与质量无关,但依赖于增积率。当拟合单个晕轮廓时,参数表现出显著的散布,但其他方面遵循相同的趋势。我们确认整个轮廓对晕的增积历史敏感,且两个径向尺度 r ₒ 和 r ₓ 特别响应形成时间和最近的增积率。因此,r ₓ 是比常用的密度斜率最陡处的半径更准确的增积率测量。
Benedikt Diemer (Mon,) 研究了这个问题。