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晶圆图的缺陷模式识别可以为半导体晶圆制造系统(SWFSs)中的质量控制提供洞察。在真实的SWFSs中,收集到的晶圆图通常在缺陷类型上是不平衡的,这会导致错误识别。本文提出了一种新型深度学习模型,称为自适应平衡生成对抗网络(AdaBalGAN),用于处理不平衡数据的晶圆图缺陷模式识别(DPR)。此外,还改进了一种分类生成对抗网络,以高保真度生成模拟晶圆图,并在所有缺陷类别下以高准确性分类模式。考虑到DPR模型对不同模式的各种学习能力,设计了一种自适应生成控制器,根据分类准确性平衡每种缺陷类型的样本数量。实验结果表明,所提出的AdaBalGAN模型在晶圆图的DPR方面优于传统模型,具有更高的准确性和稳定性。进一步的比较实验结果揭示,所提出的自适应生成机制可以增强并平衡晶圆图DPR中所有类别的识别准确性.
王等(周四)研究了这个问题。