通过射频磁控溅射在玻璃基板上沉积的ZnO薄膜蓝光发射机制

ZnO薄膜已使用射频磁控溅射在常温下沉积于康宁7059玻璃上。当用270 nm光激发时，观察到位于446 nm的强单色蓝光发射。在薄膜沉积过程中，蓝光发射峰的光致发光强度随着氧压和基板温度的增加而降低，而在真空退火时强度明显增加。实验证明446 nm的发射对应于氧空位和锌间隙的浅施主能级向价带的电子跃迁。