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Dünnheitskontrollierte Perowskit-Wafer werden direkt mit einem geometrie-regulierten Dynamikfluss-Reaktionssystem hergestellt. Es wurde festgestellt, dass die Wafer ein überlegendes Material für Photodetektoren sind, mit einer photocurrent-Antwort von ≈350-mal höher als die aus mikrokristallinen Dünnfilmen. Darüber hinaus sind die Wafer mit der Massenproduktion von integrierten Schaltungen kompatibel.
Liu et al. (Mon,) untersuchten diese Frage.
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