Ni(211)의 단계 및 테라스에서 CH4의 이탈 화학흡착에 대한 양자 역학 연구

조각들은 단계 가장자리를 따라 표면에 우선적으로 결합하며, 이탈에 대한 장벽은 단계 가장자리 원자 위에서 가장 낮고, 각각 0.57 eV 및 0.69 eV의 활성화 에너지를 가지며, 이는 이탈 결합의 방향에 따라 다릅니다. 테라스 원자 위에서의 이탈에 대한 활성화 에너지는 훨씬 더 커서 0.99 eV입니다. 양자 산란 계산은 가장 낮은 장벽의 단계 가장자리 위치에서의 이탈이 반응 산란을 지배함을 보여주며, 매우 높은 충돌 에너지에서는 두 번째 단계 가장자리 전이 상태가 중요해집니다. 입사 에너지가 1.0 eV인 경우에도 테라스 원자에서의 반응은 총 이탈 접착의 약 3%만 기여합니다. 대칭 신축 여기가 반응을 촉진하는 데 가장 큰 효과를 가지며, 다른 모드들은 다소 작은 효과를 갖습니다. 단계 가장자리 원자의 진동 특성이 테라스의 그것과는 다르지만 두 위치의 반응은 온도에 따라 유사한 변화를 보입니다. 우리는 Ni 단계 가장자리에서 열적으로 평균화된 접착 확률에 대한 실험 측정과 잘 일치함을 발견했습니다.