去芳构化杂环与六氟化硫（SF 6 ）及五氟硫基（SF 5 ）的反应

Key Points

• 本研究旨在探讨特定光照条件下去芳构化杂环与六氟化硫的反应。
• 使用 Hantzsch 酯及其他去芳构化杂环作为底物。
• 使用 390 nm LED 照射反应混合物。
• 监测反应的芳构化过程及氟离子释放情况。
• 在 LED 光照下暴露于 SF6 时，去芳构化杂环成功发生芳构化。
• 发生 SF6 还原，导致氟离子释放。