用飞秒激光脉冲对硅进行微观结构化

我们报告说，当硅表面受到500个激光脉冲（脉冲持续时间为100飞秒，能量密度为10-kJ/m²）在500 Torr的SF6或Cl2气氛中照射时，会形成一系列尖锐的锥形刺。刺的高度可达40微米，顶部直径约为1微米。在氮气、氖气或真空中对硅表面进行照射可以创建结构化表面，但不会形成尖锐的锥形刺。