光学とフォトニクス

Key Points

• 高度な光学およびフォトニック微細構造を製造するための製造ワークフローおよび重要な材料性能要件をレビューすること。
• 光選択システムと二光子重合（2PP）フォトニック構造化の評価。
• ナノインプリントリソグラフィ（NIL）レジスト処理ルートおよび後処理統合の評価。
• 製造の成功は、屈折率、かすみ、光学的明瞭さ、および波長依存の応答を含む光学特性の厳密な制御に依存します。
• 材料の実現可能性は、高い微細構造の忠実度、表面品質、寸法精度、および後処理化学的適合性を必要とします。