Surface acidity and surface treatment of silicon nitride.

窒化ケイ素の表面改質反応を行うため,まずその表面性状とくに表面ヒドロキシル基質,表面酸塩基性について調べた。その上でプロピレンオキシド,有機酸アミンなどを用いて所定温度で加熱処理した窒化ケイ素の表面親油化を試みた。表面反応はオートクレーブを用い200℃,30～50kg/cm2の液相で3時間行った。親油化の程度ヘキサンー水の液一液二相系における分散嗜雛およびヘキサン中での沈降速度測定により調べた。その結果,窒化ケイ素は表面シラノール基を有し,その量は800～900℃ のかなり高温での加熱処理の場合に最大となり,これらのヒドロキシル基に起因すると考えられるH03.3>の弱い酸点の存在が1ブチルアミン滴定により認められた。プロピレソオキシドおよびヘキサデシルアミン,オクタデシルアミンで処理した窒化ケイ素については,高い親油化効果が認められた。とくに,プロピレンオキシドによる処理では,窒化ケイ素表面の酸点がプロピレンオキシドのカチオン重合を捉進し,窒化ケイ素の親油化を高めていると推察された。