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掺钨二氧化钒(VO2)纳米粉末是通过对(NH4)5(VO)6(CO3)4(OH)9·10H2O在低温下进行热解合成的,至今为止,首次使用活性白色粉末钨酸(WPTA)作为替代掺杂剂。通过四探针方法测量了从−5到150 °C的半导体−金属转变引起的电阻变化。差示扫描量热法和纳米粉末的电阻−温度曲线表明,VO2粉末的相变温度为67.15 °C,但对于掺钨的VO2,该温度降低至26.46 °C。结果表明,WPTA作为掺杂剂在降低相变温度方面极为有效。
Peng等(Sun)研究了这个问题。